UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS

Herstellung Polymerer Arbeitsstempel

Distribution for european markets now

micro resist technology GmbH is providing a new selection of UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS (OEM:Shin-Etsu) for European markets. The UV-PDMS can be used in a wide range of applications, but in particular for the manufacture of soft-molds in replication technologies such as nanoimprint lithography.

Main advantages by using the new Shin-Etsu UV-PDMS over generic PDMS:

  • Spin-coating for enhanced mold fabrication
  • Faster curing time (e.g. 10 min after UV exposure)
  • High resolution capabilities down 100 nm and smaller
  • 0.02% shrinkage for superb pattern fidelity
     

There are two different types of UV-PDMS available. The following table provides the general material characteristics of the two different types of UV-PDMS:

General material characteristics of the new UV-PDMS (OEM:Shin-Etsu)

 

KER-4690

(X-34-4184)

KER-4691

(X-34-4208)

Appearance
(Color Tone)

Colorless

Milky-white

Appearance
(Transparency)

Transparent

Semi-
transparent

Viscosity
[Pa・s]

2.7

110

Hardness:
Durometer
type-A

55

42

Elongation
at Break [%]

110

400

Tensile Strength
[MPa]

7.7

7.0

Tear Propagation
Strength (crescent)
[kN/m]

3.0

17.1

Linear
Contraction [%]

<0.1

<0.1

Curing Rate*
[Min]

20

45

Curing Condition
[mJ/cm2]

2000

2000

* TA Instruments ARES-G2, 25℃, 1Hz

Each system consists of two components. After thoroughly mixing the two-component material system (A/B) in equal volume, the liquid mixture compounds can be processed for up to 24 hours by casting, spin-coating or other deposition methods. Due to the photo-sensitivity, the cross-linking (or curing) is initiated by UV-exposure. In contrast to generic PDMS, this allows almost full curing already at room temperature and significantly increases the curing speed (by factor of 100 and more). Furthermore, without the need of an additional thermal curing one can achieve a minimized shrinkage of 0.02%.

 

For detailed information on material properties and process specifications, please get in contact with the product manager NIL polymers Dr. Manuel Thesen (m.thesen@microresist.de). In case of inquiry request or purchase order, please contact our sales assistant Mrs. Anja Hinz (a.hinz@microresist.de).

 

The Shin-Etsu UV-PDMS are available in the following package sizes:

50 g / 50 g (UV-PDMS KER-4690-A/B)

500 g / 500 g (UV-PDMS KER-4690-A/B and KER-4691-A/B)

OrmoStamp®

Herstellung Polymerer Arbeitsstempel

OrmoStamp® verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und wurde designed entwickelt für die Herstellung transparenter Polymerarbeitsstempel mit hervorragender Strukturtreue

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
  • Geringe Entformkräfte durch verbesserte Anti-Haft-Eigenschaften
  • Verarbeitbar mit Standard-Lithographie Equipment

Anwendungen

  • Herstellung transparenter Arbeitsstempel
  • Kostengünstige Alternative zu Quarzstempeln
  • UV-basiertes und thermisches Imprinting, Nanoimprint Lithographie
     
Parameter

OrmoStamp®

Viskosität

0.4 +/– 0.2 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet)

1.516

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

InkOrmo

Ink-Jet Printing

InkOrmo verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist durch seine geringe Viskosität besonders geeignet zur Mikrolinsen-Herstellung mittels Ink-Jet-Printing  

Merkmale

  • Hervorragende thermische, mechanische und chemische Stabilität der ausgehärteten Strukturen
  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Kompatibel zu vielen Standard-Druckköpfen

Anwendungen

  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Wellenleiter und mikrofluidische Bauteile
  • Abstandshalter und Schutzschichten
  • Großflächige Substratverarbeitung
     
Parameter

InkOrmo

Viskosität

7, 12 oder 18 mPa•s

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Nein

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 ml
  • 250 ml
  • 500 ml
  • 1000 ml

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

OrmoComp®

UV-Imprint/ UV-Abformung

OrmoComp® verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist das Standardprodukt für eine große Auswahl an Strukturgrößen und Bauteildimensionen

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität

Anwendungen

  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
     
Parameter

OrmoComp®

OrmoClear®FX

Viskosität

2 ± 0.5 Pa•s

1.5 ± 0.3 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung bis zu 100 nm Strukturen

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Schrumpfung

5 – 7 %

3 – 5 %

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet)

1,520

1,555

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Ja Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

ma-P 1275, ma-P 1275HV

UV-Lithographie

ma-P 1275 und ma-P 1275HV sind hochviskose Positiv-Photoresiste für Schicktdicken bis 60 μm

Merkmale

  • Breitband-, g-, h- und i-Linien-Belichtung
  • Hohe Strukturstabilität in sauren und basischen Galvanikbädern
  • Hohe Nass- und Trockenätzstabilität
  • Gute Temperaturbeständigkeit der Resiststrukturen erreichbar
  • Wässrig-alkalische Entwicklung
  • Bis zu 87° Kanstensteilheit mit Mask Aligner Breitbandbelichtung
  • Geeignet für Reflow

Anwendungen

  • Form für die Galvanik – z.B. für Mikrospulen, Mikrofedern
  • Herstellung Mikro-optischer Komponenten – z.B. Mikro-Linsen durch Strukturübertragung nach Reflow von Resiststrukturen
  • Ätzmaske für Metall- und Halbleiter-Substrate
  • Maske für die Ionenimplantation
     
Resist

Schichtdicke @ 3000 rpm

ma-P 1275

7,5 µm

ma-P 1275HV

11,0 µm

Sie erhalten unsere Positiv-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

Entwickler und Remover: • 1,0 l • 2,5 l • 5,0 l (Prozesschemikalien)

HMDS Primer: • 100 ml • 0,25 l • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

Verdünner: • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

ma-P 1200

UV-Lithographie

ma-P 1200 ist eine Positiv-Photoresist-Serie für die Anwendung in der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik. Die Resiste sind in einer Reihe unterschiedlicher Viskositäten erhältlich für Schichtdicken von 0,3 – 40 μm in einem Schleuderbeschichtungsschritt

Merkmale

  • Breitband-, g-, h- und i-Linien-Belichtung
  • Gute Strukturstabilität in Nassätzprozessen und sauren und alkalischen Galvanikbädern
  • Hohe Stabilität in Trockenätzprozesse z.B. mit CHF3, CF4, SF6
  • Wässrig-alkalische Entwicklung

Anwendungen

  • Ätzmaske z.B. für Si, SiO2, andere Halbleiter, Metalle
  • Maske für die Ionenimplantation
  • Form für die Galvanik
     
Resist

Schichtdicke @ 3000 rpm

ma-P 1205

0,5 µm

ma-P 1210

1,0 µm

ma-P 1215

1,5 µm

ma-P 1225

2,5 µm

ma-P 1240

4,0 µm

ma-P 1275

7,5 µm

Sie erhalten unsere Positiv-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

Entwickler und Remover: • 1,0 l • 2,5 l • 5,0 l (Prozesschemikalien)

HMDS Primer: • 100 ml • 0,25 l • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

Verdünner:  • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

ma-P 1275G

Grauton-Lithographie

ma-P 1275G ist ein dicker, speziell für die Grautonlithographie entwickelter Positiv-Photoresist.

Merkmale

  • Verringerter Kontrast
  • Schichtdicken bis 60 µm und höher
  • Für Belichtung bei 350…450 nm (z.B. Laserdirektschreiben)
  • Laserbelichtung mit hoher Intensität ohne Ausgasen möglich
  • 50…60 µm Strukturtiefe möglich
  • Wässrig-alkalische Entwicklung mit TMAH-Entwicklern
  • Gut geeignet für die Strukturübertragung mittels UV-Abformung, (PVD und) Galvanik, Ätzen

Anwendungen

Anwendung der hergestellten 3D Strukturen in der Mikro-Optik, in MEMS und MOEMS, in Displays

Strukturübertragung durch

  • UV-Abformung
  • Ätzen
  • Galvanik

Sie erhalten unsere Positiv-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

Entwickler und Remover: • 1,0 l • 2,5 l • 5,0 l (Prozesschemikalien)

HMDS Primer: • 100 ml • 0,25 l • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

Verdünner: • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)