OrmoClear®FX

UV-Imprint/ UV-Abformung

OrmoClear®FX verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist ideal für mikro- und nanooptische Komponenten unterschiedlicher Strukturgrößen und Bauteildimensionen

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität

Anwendungen

  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
     
Parameter

OrmoClear®FX

OrmoComp®

Viskosität

1.5 ± 0.3 Pa•s

2 ± 0.5 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung bis zu 100 nm Strukturen

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Schrumpfung

3 – 5 %

5 – 7 %

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet)

1,555

1,520

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Ja Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

mr-UVCur26SF

Photo-Nanoimprint-Lithographie

mr-UVCur26SF ist ein rein organischer und lösemittelfreier Photo-NIL-Resist entwickelt für die Beschichtung mittels Inkjet-Verfahren. Seine niedrige Viskosität und sehr schnelle Härtung ermöglichen den Einsatz in kontinulierlichen Rolle-zu-Rolle-NIL-Prozessen (R2R-NIL).

Merkmale

  • Beschichtung mittels Inkjet-Dispensierung durch die niedrige Viskosität (15 mPas), beispielsweise für Step-and-Repeat-Verfahren
  • Kein Prebake nach der Substratbeschichtung durch den Verzicht auf Lösemittel
  • Sehr schnelle Härtung in kontinuierlichen Rolle-zu-Rolle-NIL-Prozessen mit hohem Durchsatz, Rollengeschwindigkeit bis zu 30 m/min  erreicht
  • Gute Haftung auf PC- und PET-Substraten
  • Hervorragende Ätzstabilität für Strukturübertragungen in Plasmaätzprozessen
  • Rückstandsfrei entfernbar mit Sauerstoff-Plasma

Anwendungen

  • Hartmaske für die Strukturübertragung (mittels Trockenätzen)
  • Applikation von Nanostrukturen auf Polymerfolien
  • Herstellung von Nanostrukturen für z.B.
    • Nano-optische Bauteile, SOEs
    • Organische Elektronik (OLED, OPV, OTFT)
    • Mikroelektronische Bauteile
    • LEDs, photonische Kristalle

 Prozessparameter für die Inkjet-Dispensierung

Verfahren

Prozessparameter

Inkjet-Parameter

Piezoaktuierter Druckkopf, Drucken bei Raumtemperatur möglich

Prebake-Bedingungen

Nicht notwendig (lösemittelfrei)

Prägetemperatur

Raumtemperatur

Prägedruck

> 100 mbar

Belichtungsdosis

> 500 mJ cm-2 (λ =  320 – 420 nm)

Verdünnungslösemittel (Thinner)

Nicht anwendbar

Haftvermittler (Primer)

mr-APS1 (für z. B. Si)

 Prozessparameter für die Rolle-zu-Rolle-NIL

Verfahren

Prozessparameter

Auftragungsmethode

Gravurdruck, Inkjet-Dispensierung o.ä.

Prebake-Bedingungen

Nicht notwendig (lösemittelfrei)

Schichtdicke

Abhängig von der aufgetragenen Menge

Rollengeschwindigkeit

Maschinenabhängig und begrenzt durch die Beleuchtungseinheit, bis zu 30 m/min bislang erreicht

Prägetemperatur

Raumtemperatur

Prägedruck

Maschinenabhängig

Belichtungsdosis

> 500 mJ cm-2 (λ =  320 – 420 nm)

Verdünnungslösemittel (Thinner)

Nicht geeignet für Verdünnungen

Haftvermittler (Primer)

Nicht notwendig, gute Haftung auf PC, PET etc.

Sie erhalten mr-UVCur26SF in den folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 ml
  • 250 ml
  • 500 ml
  • 1000 ml
  • Größere Gebinde und Mengen auf Anfrage erhältlich

mr-NIL210 Serie

Photo-Nanoimprint-Lithographie

mr-NIL210 ist ein rein organischer Photo-NIL-Resist mit ausgezeichneter Ätzstabilität. Er eignet sich insbesondere für die Soft-NIL mit weichen Stempelmaterialien, beispielsweise PDMS.

Merkmale

  • Exzellente Härtungseigenschaften,  selbst bei Anwesenheit von Luftsauerstoff
  • Hervorragende Kompatibilität zu PDMS-Arbeitsstempeln für die Soft-NIL, bevorzugte Anwendung in Kombination mit dem Stempelmaterial UV-PDMS KER-4690 
  • Überragende Ätzstabilität gegenüber unterschiedlichen Substraten wie Silizium, Siliziumdioxid oder Aluminium
  • Rein organischer Resist, komplette Entfernung auch nach dem Härten mit Sauerstoffplasma möglich

Anwendungen

  • Hartmaske für die Strukturübertragung (nasschemisch oder mittels Trockenätzen )
  • Herstellung von Nanostrukturen für z.B.
    • Nano-optische Bauteile, SOEs
    • LEDs, photonische Kristalle
    • Patterned Sapphire Substrates (PSS)
    • Mikroelektronische Bauteile
    • Organische Elektronik (OLED, OPV, OTFT)
    • Speichermedien (bit patterned media)
    • Lift-off in Kombination mit z.B. LOR (MCC, USA)

 Empfohlene Prozessparameter

Verfahren

Prozessparameter

Schleuderbeschichtung

3000 U min-1 für 30 s

Prebake-Bedingungen

100 °C für 60 s

Prägetemperatur

Raumtemperatur

Prägedruck

> 100 mbar

Belichtungsintensität

mr-NIL210-100nm: 100 mW cm-2
mr-NIL210-200nm: 50 mW cm-2
mr-NIL210-500nm: 50 mW cm-2

Belichtungseinheit

Option 1: Breitbandbelichtung
Option 2: LED (365-405 nm)

Verdünnungslösemittel (Thinner)

ma-T 1045

Haftvermittler (Primer)

mr-APS1

 Unsere Standardschichtdicken

mr-NIL210 Version

Schichtdicke @ 3000 Umin-1*

mr-NIL210-100nm

100 nm

mr-NIL210-200nm

200 nm

mr-NIL210-500nm

500 nm

* Herstellung weiterer Schichtdicken möglich bis 2 µm auf Anfrage 

Sie erhalten die NIL-Resiste dieser Serie in den folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 ml
  • 250 ml
  • 500 ml
  • Größere Gebinde und Mengen auf Anfrage erhältlich

UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS

Herstellung Polymerer Arbeitsstempel

Distribution for european markets now

micro resist technology GmbH is providing a new selection of UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS (OEM:Shin-Etsu) for European markets. The UV-PDMS can be used in a wide range of applications, but in particular for the manufacture of soft-molds in replication technologies such as nanoimprint lithography.

Main advantages by using the new Shin-Etsu UV-PDMS over generic PDMS:

  • Spin-coating for enhanced mold fabrication
  • Faster curing time (e.g. 10 min after UV exposure)
  • High resolution capabilities down 100 nm and smaller
  • 0.02% shrinkage for superb pattern fidelity
     

There are two different types of UV-PDMS available. The following table provides the general material characteristics of the two different types of UV-PDMS:

General material characteristics of the new UV-PDMS (OEM:Shin-Etsu)

 

KER-4690

(X-34-4184)

KER-4691

(X-34-4208)

Appearance
(Color Tone)

Colorless

Milky-white

Appearance
(Transparency)

Transparent

Semi-
transparent

Viscosity
[Pa・s]

2.7

110

Hardness:
Durometer
type-A

55

42

Elongation
at Break [%]

110

400

Tensile Strength
[MPa]

7.7

7.0

Tear Propagation
Strength (crescent)
[kN/m]

3.0

17.1

Linear
Contraction [%]

<0.1

<0.1

Curing Rate*
[Min]

20

45

Curing Condition
[mJ/cm2]

2000

2000

* TA Instruments ARES-G2, 25℃, 1Hz

Each system consists of two components. After thoroughly mixing the two-component material system (A/B) in equal volume, the liquid mixture compounds can be processed for up to 24 hours by casting, spin-coating or other deposition methods. Due to the photo-sensitivity, the cross-linking (or curing) is initiated by UV-exposure. In contrast to generic PDMS, this allows almost full curing already at room temperature and significantly increases the curing speed (by factor of 100 and more). Furthermore, without the need of an additional thermal curing one can achieve a minimized shrinkage of 0.02%.

 

For detailed information on material properties and process specifications, please get in contact with the product manager NIL polymers Dr. Manuel Thesen (m.thesen@microresist.de). In case of inquiry request or purchase order, please contact our sales assistant Mrs. Anja Hinz (a.hinz@microresist.de).

 

The Shin-Etsu UV-PDMS are available in the following package sizes:

50 g / 50 g (UV-PDMS KER-4690-A/B)

500 g / 500 g (UV-PDMS KER-4690-A/B and KER-4691-A/B)

OrmoStamp®

Herstellung Polymerer Arbeitsstempel

OrmoStamp® verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und wurde designed entwickelt für die Herstellung transparenter Polymerarbeitsstempel mit hervorragender Strukturtreue

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
  • Geringe Entformkräfte durch verbesserte Anti-Haft-Eigenschaften
  • Verarbeitbar mit Standard-Lithographie Equipment

Anwendungen

  • Herstellung transparenter Arbeitsstempel
  • Kostengünstige Alternative zu Quarzstempeln
  • UV-basiertes und thermisches Imprinting, Nanoimprint Lithographie
Parameter

OrmoStamp®

Viskosität

0.4 +/– 0.2 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet) 1,516
Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)
Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  •     100 g
  •     250 g
  •     500 g
  •     1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

OrmoStamp®

Herstellung Polymerer Arbeitsstempel

OrmoStamp® verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und wurde designed entwickelt für die Herstellung transparenter Polymerarbeitsstempel mit hervorragender Strukturtreue

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
  • Geringe Entformkräfte durch verbesserte Anti-Haft-Eigenschaften
  • Verarbeitbar mit Standard-Lithographie Equipment

Anwendungen

  • Herstellung transparenter Arbeitsstempel
  • Kostengünstige Alternative zu Quarzstempeln
  • UV-basiertes und thermisches Imprinting, Nanoimprint Lithographie
     
Parameter

OrmoStamp®

Viskosität

0.4 +/– 0.2 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet)

1.516

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

OrmoClear®-Serie

UV-Imprint/ UV-Abformung

Die Produkte der OrmoClear®-Serie verfügen nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und sind durch ihre sehr geringe Volumenschrumpfung besonders geeignet für optische Komponenten > 100 µm

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität

Anwendungen

  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
     
Parameter OrmoClear® OrmoClear®30 OrmoClear®FX

Viskosität

2,9 ± 0.3 Pa•s

30 ± 3 Pa•s

1,5 ± 0,3 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung bis zu 100 nm

Schrumpfung

3 - 5 %

<< 2 %

3 - 5 %

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Brechungsindex
(589 nm, ausgehärtet)

1,555

1,559 1,555

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Nein Nein Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

OrmoComp®

UV-Imprint/ UV-Abformung

OrmoComp® verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist das Standardprodukt für eine große Auswahl an Strukturgrößen und Bauteildimensionen

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität

Anwendungen

  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
     
Parameter

OrmoComp®

OrmoClear®FX

Viskosität

2 ± 0.5 Pa•s

1.5 ± 0.3 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung bis zu 100 nm Strukturen

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Schrumpfung

5 – 7 %

3 – 5 %

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet)

1,520

1,555

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Ja Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

mr-UVCur21 Serie

Photo-Nanoimprint-Lithographie

mr-UVCur21 ist ein reiner photo-härtender NIL Resist mit ausgesprochen guter Ätzstabilität

Merkmale

  • Niedrigviskose Resistformulierung, schnelle Füllung der Stempelkavitäten
  • Schnelle Photovernetzung bei geringer UV-Intensität, kurze Imprintzyklen
  • 100% organisch, Rückstandsfreie Entfernung mit Sauerstoffplasma möglich

Anwendungen

Herstellung von Nanostrukturen für z.B

  • Mikroelektronische Bauteile
  • Data storage (bit patterned media)
  • Nano-optische Bauteile
  • Photonische Kristalle
  • Hardmask für die Strukturübertragung (nasschemisch oder Trockenätzen)
  • Lift-off in Kombination mit z.B. LOR (MCC, USA)
     

mr-UVCur21 Versionen

Schichtdicke *

mr-UVCur21-100nm

100 nm

mr-UVCur21-200nm

200 nm

mr-UVCur21-300nm

300 nm

mr-UVCur21SF

1,7 µm

* Andere Schichtdicken auf Anfrage verfügbar   

Sie erhalten unsere NIL-Polymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)