mr-UVCur26SF

Photo-Nanoimprint-Lithographie

mr-UVCur26SF ist ein rein organischer und lösemittelfreier Photo-NIL-Resist entwickelt für die Beschichtung mittels Inkjet-Verfahren. Seine niedrige Viskosität und sehr schnelle Härtung ermöglichen den Einsatz in kontinulierlichen Rolle-zu-Rolle-NIL-Prozessen (R2R-NIL).

Merkmale

  • Beschichtung mittels Inkjet-Dispensierung durch die niedrige Viskosität (15 mPas), beispielsweise für Step-and-Repeat-Verfahren
  • Kein Prebake nach der Substratbeschichtung durch den Verzicht auf Lösemittel
  • Sehr schnelle Härtung in kontinuierlichen Rolle-zu-Rolle-NIL-Prozessen mit hohem Durchsatz, Rollengeschwindigkeit bis zu 30 m/min  erreicht
  • Gute Haftung auf PC- und PET-Substraten
  • Hervorragende Ätzstabilität für Strukturübertragungen in Plasmaätzprozessen
  • Rückstandsfrei entfernbar mit Sauerstoff-Plasma

Anwendungen

  • Hartmaske für die Strukturübertragung (mittels Trockenätzen)
  • Applikation von Nanostrukturen auf Polymerfolien
  • Herstellung von Nanostrukturen für z.B.
    • Nano-optische Bauteile, SOEs
    • Organische Elektronik (OLED, OPV, OTFT)
    • Mikroelektronische Bauteile
    • LEDs, photonische Kristalle

 Prozessparameter für die Inkjet-Dispensierung

Verfahren

Prozessparameter

Inkjet-Parameter

Piezoaktuierter Druckkopf, Drucken bei Raumtemperatur möglich

Prebake-Bedingungen

Nicht notwendig (lösemittelfrei)

Prägetemperatur

Raumtemperatur

Prägedruck

> 100 mbar

Belichtungsdosis

> 500 mJ cm-2 (λ =  320 – 420 nm)

Verdünnungslösemittel (Thinner)

Nicht anwendbar

Haftvermittler (Primer)

mr-APS1 (für z. B. Si)

 Prozessparameter für die Rolle-zu-Rolle-NIL

Verfahren

Prozessparameter

Auftragungsmethode

Gravurdruck, Inkjet-Dispensierung o.ä.

Prebake-Bedingungen

Nicht notwendig (lösemittelfrei)

Schichtdicke

Abhängig von der aufgetragenen Menge

Rollengeschwindigkeit

Maschinenabhängig und begrenzt durch die Beleuchtungseinheit, bis zu 30 m/min bislang erreicht

Prägetemperatur

Raumtemperatur

Prägedruck

Maschinenabhängig

Belichtungsdosis

> 500 mJ cm-2 (λ =  320 – 420 nm)

Verdünnungslösemittel (Thinner)

Nicht geeignet für Verdünnungen

Haftvermittler (Primer)

Nicht notwendig, gute Haftung auf PC, PET etc.

Sie erhalten mr-UVCur26SF in den folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 ml
  • 250 ml
  • 500 ml
  • 1000 ml
  • Größere Gebinde und Mengen auf Anfrage erhältlich

mr-XNIL26 Serie

Photo-Nanoimprint-Lithographie

Photo-vernetzbarer NIL Resist mit einem hohen Anteil an fluorierten Komponenten für eine einfache Stempeltrennung bei geringer Defektivität

Merkmale

  • hoher Anteil an fluorierten Komponenten erleichtert die Stempeltrennung und vermindert die Defektrate
  • 100 % organisch, Rückstandsfrei entfernbar mit Sauerstoffplasma

Anwendungen

  • NIL bei der sehr niedrige Entformkräfte wichtig sind, beispielsweise Imprints auf einem Mehrschichtsystem
     

mr-XNIL26 Versionen

Schichtdicke

mr-XNIL26-100nm

100 nm

mr-XNIL26-200nm

200 nm

mr-XNIL26-300nm

300 nm

mr-XNIL26SF

4,8 µm

Sie erhalten unsere NIL-Polymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

mr-UVCur21 Serie

Photo-Nanoimprint-Lithographie

mr-UVCur21 ist ein reiner photo-härtender NIL Resist mit ausgesprochen guter Ätzstabilität

Merkmale

  • Niedrigviskose Resistformulierung, schnelle Füllung der Stempelkavitäten
  • Schnelle Photovernetzung bei geringer UV-Intensität, kurze Imprintzyklen
  • 100% organisch, Rückstandsfreie Entfernung mit Sauerstoffplasma möglich

Anwendungen

Herstellung von Nanostrukturen für z.B

  • Mikroelektronische Bauteile
  • Data storage (bit patterned media)
  • Nano-optische Bauteile
  • Photonische Kristalle
  • Hardmask für die Strukturübertragung (nasschemisch oder Trockenätzen)
  • Lift-off in Kombination mit z.B. LOR (MCC, USA)
     

mr-UVCur21 Versionen

Schichtdicke *

mr-UVCur21-100nm

100 nm

mr-UVCur21-200nm

200 nm

mr-UVCur21-300nm

300 nm

mr-UVCur21SF

1,7 µm

* Andere Schichtdicken auf Anfrage verfügbar   

Sie erhalten unsere NIL-Polymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)