EpoCore & EpoClad Serien

UV-Lithographie (Breitband und i-Linen-Belichtung)

Geringe optische Dämpfung für Permanentanwendungen

Merkmale

  • Standard UV-Lithographie und PCB Technologie
  • Hohe Transparenz @ 850 nm
  • Optische Dämpfung ~ 0,2 dB/cm @ 850 nm
  • Hohe thermische und Druckbeständigkeit
  • Einstellbarer Brechungsindex (Kern/ Mantel)

Anwendungen

  • Polymerbasierte Multimode (MM) und Single mode (SM) Wellenleiter:
    EpoCore als Kern- und EpoClad als Mantelmaterial

EpoCore

Product

Schichtdicke

EpoCore 2

2,0 µm @ 3000 rpm

EpoCore 5

5,0 µm @ 3000 rpm

EpoCore 10

10 µm @ 3000 rpm

EpoCore 20

20 µm @ 3000 rpm

EpoCore 50

50 µm @ 1500 rpm

EpoClad

Product Schichtdicke

EpoClad 2

2,0 µm @ 3000 rpm

EpoClad 5

5,0 µm @ 3000rpm

EpoClad 10

10 µm @ 3000rpm

EpoClad 20

20 µm @ 3000rpm

EpoClad 50

50 µm @ 1700 rpm

Sie erhalten unsere Negativ-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

Entwickler und Remover: • 1,0 l • 2,5 l • 5,0 l (Prozesschemikalien)

Haftvermittler: • 100 ml • 0,25 l • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

OrmoClear®FX

UV-Imprint/ UV-Abformung

OrmoClear®FX verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist ideal für mikro- und nanooptische Komponenten unterschiedlicher Strukturgrößen und Bauteildimensionen

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität

Anwendungen

  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
     
Parameter

OrmoClear®FX

OrmoComp®

Viskosität

1.5 ± 0.3 Pa•s

2 ± 0.5 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung bis zu 100 nm Strukturen

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Schrumpfung

3 – 5 %

5 – 7 %

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet)

1,555

1,520

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Ja Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

ma-N 400 Serie & ma-N 1400 Serie

UV-Lithographie (Breitband und i-Linen-Belichtung)

Single layer lift-off Strukturierung, konventionelle Strukturübertragungsprozesse

Merkmale

  • Einstellbares Resistprofil: vertikal bis unterschnitten
  • Hohe thermische Stability der Resiststrukturen
  • Hohe Nass- und Trockenätzstabilität
  • Wässrig-alkalisch entwickelbar
  • Leicht entfernbar

ma-N 400: Thermische Stabilität bis 110 °C für Aufdampfprozesse

ma-N 1400: Thermische Stabilität bis 160°C für Aufdampf- und Sputterprozesse

Anwendungen

  • Maske für Lift-off Prozesse
  • Ätzmaske für Halbleiter und Metalle
  • Maske für Ionenimplantationsprozesse

ma-N 400

Resist    Schichtdicke @ 3000 rpm
ma-N 405 0,5 µm
ma-N 415    1,5 µm
ma-N 420    2,0 µm
ma-N 440    4,1 µm
ma-N 490 7,5 µm

 ma-N 1400

Resist Schichtdicke @ 3000 rpm
ma-N 1405 0,5 µm
ma-N 1407    0,7 µm
ma-N 1410    1,0 µm
ma-N 1420    2,0 µm
ma-N 1440 4,0 µm

Sie erhalten unsere Negativ-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

Entwickler und Remover: • 1,0 l • 2,5 l • 5,0 l (Prozesschemikalien)

Haftvermittler: • 100 ml • 0,25 l • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

Verdünner: • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

OrmoStamp®

Herstellung Polymerer Arbeitsstempel

OrmoStamp® verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und wurde designed entwickelt für die Herstellung transparenter Polymerarbeitsstempel mit hervorragender Strukturtreue

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
  • Geringe Entformkräfte durch verbesserte Anti-Haft-Eigenschaften
  • Verarbeitbar mit Standard-Lithographie Equipment

Anwendungen

  • Herstellung transparenter Arbeitsstempel
  • Kostengünstige Alternative zu Quarzstempeln
  • UV-basiertes und thermisches Imprinting, Nanoimprint Lithographie
Parameter

OrmoStamp®

Viskosität

0.4 +/– 0.2 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet) 1,516
Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)
Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  •     100 g
  •     250 g
  •     500 g
  •     1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

OrmoStamp®

Herstellung Polymerer Arbeitsstempel

OrmoStamp® verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und wurde designed entwickelt für die Herstellung transparenter Polymerarbeitsstempel mit hervorragender Strukturtreue

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
  • Geringe Entformkräfte durch verbesserte Anti-Haft-Eigenschaften
  • Verarbeitbar mit Standard-Lithographie Equipment

Anwendungen

  • Herstellung transparenter Arbeitsstempel
  • Kostengünstige Alternative zu Quarzstempeln
  • UV-basiertes und thermisches Imprinting, Nanoimprint Lithographie
     
Parameter

OrmoStamp®

Viskosität

0.4 +/– 0.2 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet)

1.516

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

OrmoCore und OrmoClad

UV-Lithographie

OrmoCore und OrmoClad verfügen nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und sind wegen ihrer geringen optischen Dämpfung besonders geeignet zur Herstellung optischer Wellenleiter

Merkmale

  • Niedrige optische Dämpfung bei Datacom Wellenlängen
  • Einstellbarer Brechungsindex (via Anteil Core/Clad)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität

Anwendungen

  • Singlemode- und Multimode-Wellenleiter
  • Strahlteiler
  • Thermo-optische Schalter
  • Mikroring-Resonatoren
     
 

OrmoCore

OrmoClad

Viskosität

2,9 +/- 0.4 Pa•s

2,5 +/- 1 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung bis zu 100 nm Strukturen

Hohe Auflösung bis zu 100 nm Strukturen

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Brechungsindex
(589 nm, ausgehärtet)

1,555

1,537

Belichtung unter Sauerstoff
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Nein Nein

Haltbarkeit

6 Monate

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

OrmoClear®-Serie

UV-Imprint/ UV-Abformung

Die Produkte der OrmoClear®-Serie verfügen nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und sind durch ihre sehr geringe Volumenschrumpfung besonders geeignet für optische Komponenten > 100 µm

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität

Anwendungen

  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
     
Parameter OrmoClear® OrmoClear®30 OrmoClear®FX

Viskosität

2,9 ± 0.3 Pa•s

30 ± 3 Pa•s

1,5 ± 0,3 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung bis zu 100 nm

Schrumpfung

3 - 5 %

<< 2 %

3 - 5 %

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Brechungsindex
(589 nm, ausgehärtet)

1,555

1,559 1,555

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Nein Nein Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

OrmoComp®

UV-Imprint/ UV-Abformung

OrmoComp® verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist das Standardprodukt für eine große Auswahl an Strukturgrößen und Bauteildimensionen

Merkmale

  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität

Anwendungen

  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
     
Parameter

OrmoComp®

OrmoClear®FX

Viskosität

2 ± 0.5 Pa•s

1.5 ± 0.3 Pa•s

Auflösung

Hohe Auflösung bis zu 100 nm Strukturen

Thermische Stabilität

Bis zu 270 °C (kurzzeitig)

Schrumpfung

5 – 7 %

3 – 5 %

Brechungsindex (589 nm, ausgehärtet)

1,520

1,555

Abformung mit PDMS-Stempel
(keine Sauerstoffempfindlichkeit)

Ja Ja

Haltbarkeit

6 Monate

Lösungsmittelfrei

Ja, gebrauchsfertige Formulierungen

Sie erhalten unsere Hybridpolymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 100 g
  • 250 g
  • 500 g
  • 1000 g

OrmoThin; OrmoPrime®08: • 100 ml • 0.25 l • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

OrmoDev: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien) 

ma-P 1275, ma-P 1275HV

UV-Lithographie

ma-P 1275 und ma-P 1275HV sind hochviskose Positiv-Photoresiste für Schicktdicken bis 60 μm

Merkmale

  • Breitband-, g-, h- und i-Linien-Belichtung
  • Hohe Strukturstabilität in sauren und basischen Galvanikbädern
  • Hohe Nass- und Trockenätzstabilität
  • Gute Temperaturbeständigkeit der Resiststrukturen erreichbar
  • Wässrig-alkalische Entwicklung
  • Bis zu 87° Kanstensteilheit mit Mask Aligner Breitbandbelichtung
  • Geeignet für Reflow

Anwendungen

  • Form für die Galvanik – z.B. für Mikrospulen, Mikrofedern
  • Herstellung Mikro-optischer Komponenten – z.B. Mikro-Linsen durch Strukturübertragung nach Reflow von Resiststrukturen
  • Ätzmaske für Metall- und Halbleiter-Substrate
  • Maske für die Ionenimplantation
     
Resist

Schichtdicke @ 3000 rpm

ma-P 1275

7,5 µm

ma-P 1275HV

11,0 µm

Sie erhalten unsere Positiv-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

Entwickler und Remover: • 1,0 l • 2,5 l • 5,0 l (Prozesschemikalien)

HMDS Primer: • 100 ml • 0,25 l • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

Verdünner: • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

ma-P 1200

UV-Lithographie

ma-P 1200 ist eine Positiv-Photoresist-Serie für die Anwendung in der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik. Die Resiste sind in einer Reihe unterschiedlicher Viskositäten erhältlich für Schichtdicken von 0,3 – 40 μm in einem Schleuderbeschichtungsschritt

Merkmale

  • Breitband-, g-, h- und i-Linien-Belichtung
  • Gute Strukturstabilität in Nassätzprozessen und sauren und alkalischen Galvanikbädern
  • Hohe Stabilität in Trockenätzprozessen z.B. mit CHF3, CF4, SF6
  • Wässrig-alkalische Entwicklung

Anwendungen

  • Ätzmaske z.B. für Si, SiO2, andere Halbleiter, Metalle
  • Maske für die Ionenimplantation
  • Form für die Galvanik
     
Resist

Schichtdicke @ 3000 rpm

ma-P 1205

0,5 µm

ma-P 1210

1,0 µm

ma-P 1215

1,5 µm

ma-P 1225

2,5 µm

ma-P 1240

4,0 µm

ma-P 1275

7,5 µm

Sie erhalten unsere Positiv-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

Entwickler und Remover: • 1,0 l • 2,5 l • 5,0 l (Prozesschemikalien)

HMDS Primer: • 100 ml • 0,25 l • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

Verdünner:  • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)