mr-DWL Serie

Permanentanwendung oder konventionelle Strukturübertragungsprozesse

Merkmale

  • Empfindlich oberhalb 400 nm, für das Direktlaserschreiben @ 405 nm
  • Hohe thermische und chemische Stabilität
  • Hohe Trocken- und Nassätzstabilität

Anwendungen

  • Schnelles und kontaktloses Prototyping durch
  • Permanentanwendungen: Master- und Templateherstellung, PDMS-Abformung 
  • Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform
     

Resist

Schichtdicke

mr-DWL 5

5,0 µm @ 3000 rpm

mr-DWL 40

40 µm @ 2000 rpm

mr-DWL 100 100 µm @ 1500 rpm

Sie erhalten unsere Negativ-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

Entwickler und Remover: • 1,0 l • 2,5 l • 5,0 l (Prozesschemikalien)

Verdünner: • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)

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