Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate, wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere verwendet werden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden.

Beispiel Technologie Anwendung PDF Details
Thermische Nanoimprint-Lithographie Ätzmaske, Permanentanwendungen
Kombinierte thermische- und Photo-Nanoimprint-Lithographie Ätzmaske
Photo-Nanoimprint-Lithographie Ätzmaske, Permanentanwendungen
Herstellung Polymerer Arbeitsstempel geeignet für alle Imprinttechnologien
Prozesschemikalien Verdünner und Haftvermittler