Die Tabelle enthält zusammengefasste Informationen über empfohlene Prozesschemikalien für
die Positiv-Photoresiste.

Detailierte Informationen, wie z.B. Empfehlungen für verschiedene Substrate, Schichtdicken und

Anwendungen sind in den Verarbeitungshinweisen der Produkte zu finden.

Verdünner

Positiv-Resist serie

Verdünner

ma-P 1200

ma-T 1050

ma-P 1275/ ma-P 1275HV

ma-T 1050

ma-P 1275G

ma-T 1050

Haftvermittler

Positiv-Resist serie

Haftvermittler

ma-P 1200

HMDS, SurPass 4000

ma-P 1275/ ma-P 1275HV

HMDS, SurPass 4000

ma-P 1275G

HMDS, SurPass 4000

Entwickler metallionenhaltig und metallionenfrei

Positiv-Resist serie Entwickler metallionenhaltig Entwickler metallionenfrei
ma-P 1200

ma-D 331, ma-D 331/S

mr-D 526/S

ma-P 1275/

ma-P 1275HV

ma-D 331, ma-D 331/S

mr-D 526/S

ma-P 1275G

-

ma-D 532/S, mr-D 526/S

Entwickler auf kritischen Substraten, z. B. Al

Positiv-Resist serie

Entwickler auf kritischen Substraten, z. B. Al

ma-P 1200

Microposit Developer concentrate

ma-P 1275/ ma-P 1275HV

Microposit Developer concentrate

ma-P 1275G

-

Remover Lösemittelbasiert

Positiv-Resist serie

Remover Lösemittelbasiert

ma-P 1200

mr-Rem 700, mr-Rem 660, mr-Rem 400, mr-Rem 500

ma-P 1275/ ma-P 1275HV

mr-Rem 700, mr-Rem 660, mr-Rem 400, mr-Rem 500

ma-P 1275G

mr-Rem 700, mr-Rem 660, mr-Rem 400, mr-Rem 500

 Remover wässrig, stark alkalisch

Positiv-Resist serie

Remover wässrig, stark alkalisch

ma-P 1200

ma-R 404/S

ma-P 1275/ ma-P 1275HV

ma-R 404/S

ma-P 1275G

ma-R 404/S

 Ätzlösung

Metall

Ätzlösung

Chrom

Chrom etch 18