Positivresist-Serie für die Elektronenstrahlbelichtung

Merkmale

  • Hochempfindlich
  • Hohes Auflösungsvermögen (< 50 nm)
  • Hohe Trockenätzbeständigkeit
  • Entwicklung in organischen Lösemitteln 

Anwendungen

  • Ätzmaske   

Resist

Schichtdicke @ 3000 rpm

mr-PosEBR 0.05

50 nm

mr-PosEBR 0.1

100 nm

mr-PosEBR 0.3

300 nm

Sie erhalten unsere Positiv-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 2,5 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

Entwickler und Remover: • 1.0 l • 2.5 l • 5.0 l (Prozesschemikalien)

Verdünner: • 0.5 l • 1.0 l (Prozesschemikalien)

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