micro resist technology GmbH freut sich ein neues Produkt aus dem Bereich der Hybridpolymere vorzustellen: OrmoPrime20.

Die chemische Natur von Cyclo Olefin Copolymeren (COCs) bietet einzigartige Materialeigenschaften, die die spezielle Materialklasse nicht nur für die Herstellung von unterschiedlichen Spritzgussteilen, sondern auch für verschiedene Dünnschichtanwendungen attraktiv machen.

Um den Anforderungen des Imprints gerecht zu werden, wurde mit OrmoStamp® ein Material zur einfachen und kosteneffizienten Herstellung transparenter, polymerer Arbeitstempel mit exzellenter Strukturtreue bis in den Nanometerbereich entwickelt. Hierbei ist OrmoStamp® sowohl für den thermischen als auch für den UV-basierten Imprint einsetzbar und daher ein geeigneter Ersatz für Stempel auf Silizium- und Quarz-Basis.

Die Grauton-Lithographie mit dem Positiv-Resist ma-P 1200G ist eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen. Diese dienen als Template für die nachfolgende Strukturübertragung z.B. mittels Metallisierung und Galvanik (und Prägen/ Abformen in Funktions-Polymere), UV Abformung mit OrmoStamp® und OrmoComp® oder thermische Abformung mit PDMS, Trockenätzen.

Um Mikro- und Nanostrukturen replizieren zu können, müssen die Oberflächen von sowohl Master als auch die der Arbeitsstempel Antihafteigenschaften besitzen. Dieses Video zeigt das bei micro resist technology etablierte Herstellungsverfahren für Antihaftschichten aus der Gasphase.

Mit ihren glasähnlichen Eigenschaften hinsichtlich Transparenz und Brechungsindex, bieten die UV-härtbaren Produkte der Hybridpolymere nicht nur beste Voraussetzungen für Anwendungen als mikrooptische Elemente wie Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays, sondern auch für optische Lichtwellenleiterstrukturen.

Trockenfilmresiste erlauben die einfache Herstellung von Resistschichten zur Anwendung im Ein- oder Mehrschichtaufbau auf planaren Substraten oder Substraten mit Topographien. Mit diesem „How-to-use“ Video demonstrieren wir die einfache Handhabung und Verwendung von Trockenresistfilmen.

Poly- und perfluorierte Moleküle erfuhren in den vergangenen Jahren unter der berüchtigten Abkürzung „PFAS“ eine breite öffentliche Aufmerksamkeit, die Anfang des Jahres 2023 in einem bei der ECHA (Europäische Chemikalienagentur) eingereichten Entwurf...

Im Rahmen unserer Lithografie-Dienstleistungen bieten wir seit 2013 mehrschichtige Master-Wafer für mikrofluidische Anwendungen aus epoxidbasierten Resisten an...

Die fortschreitende Miniaturisierung in der Halbleiterindustrie und der Mikrosystemtechnik erfordert die Herstellung von zunehmend kleineren und komplexeren Strukturen mit hohen Anforderungen an die Präzision und Auflösung bis in den Nanometer-Maßstab.

Trockenfilmresiste erlauben die einfache Herstellung von Resistschichten zur Anwendung im Ein- oder Mehrschichtaufbau auf planaren Substraten oder Substraten mit Topographien.

As 2022 draws to a close, we proudly highlight a major achievement that our nanoimprint lithography (NIL) group has accomplished this year in collaboration with two key players in the European NIL ecosystem.

micro resist technology GmbH freut sich unseren Kunden eine neue Gebindeart für Hybridpolymere anbieten zu können. Ab sofort sind OrmoComp®, OrmoStamp®, OrmoCore, OrmoClad und alle Produkte der OrmoClear®-Serie in 55cc Kartuschen mit Luer-Lock Anschluß erhältlich...

Die soft UV-NIL ist eine ausgezeichnete Methode, um leicht und reproduzierbar Nanostrukturen mit einem weichen Stempel auf ein Substrat zu übertragen.

micro resist technology GmbH freut sich, ein neues Produkt aus dem Bereich der Materialien für die Nanoimprint Lithographie vorzustellen: mr-NIL212FC.

Die Zwei-Photonen-Polymerisation ist eine ausgezeichnete Technik zur Herstellung individueller mikro(optischer) 3D-Strukturen mit OrmoComp® oder mr-DWL, die aufgrund ihrer Komplexität nicht mit konventionellen Lithographieverfahren herstellbar sind.

micro resist technology GmbH freut sich ein neues Produkt aus dem Bereich der Hybridpolymere vorzustellen: OrmoPrime20.

Die chemische Natur von Cyclo Olefin Copolymeren (COCs) bietet einzigartige Materialeigenschaften, die die spezielle Materialklasse nicht nur für die Herstellung von unterschiedlichen Spritzgussteilen, sondern auch für verschiedene Dünnschichtanwendungen attraktiv machen.

Um den Anforderungen des Imprints gerecht zu werden, wurde mit OrmoStamp® ein Material zur einfachen und kosteneffizienten Herstellung transparenter, polymerer Arbeitstempel mit exzellenter Strukturtreue bis in den Nanometerbereich entwickelt. Hierbei ist OrmoStamp® sowohl für den thermischen als auch für den UV-basierten Imprint einsetzbar und daher ein geeigneter Ersatz für Stempel auf Silizium- und Quarz-Basis.

Die Grauton-Lithographie mit dem Positiv-Resist ma-P 1200G ist eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen. Diese dienen als Template für die nachfolgende Strukturübertragung z.B. mittels Metallisierung und Galvanik (und Prägen/ Abformen in Funktions-Polymere), UV Abformung mit OrmoStamp® und OrmoComp® oder thermische Abformung mit PDMS, Trockenätzen.