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Qualitätsmanagement

Unser Unternehmen betreibt ein integriertes Qualitäts- und Umweltmanagementsystem, das die Grundlage für eine nachhaltige und kundenorientierte Unternehmensführung bildet. Das Qualitätsmanagementsystem nach DIN EN ISO 9001 ist bereits seit 1997, das Umweltmanagementsystem nach DIN EN ISO 14001 seit 2011 erfolgreich zertifiziert. Beide Managementsysteme unterstützen uns dabei, die Qualität unserer Produkte und Dienstleistungen kontinuierlich zu verbessern, Ressourcen verantwortungsvoll einzusetzen und den langfristigen Unternehmenserfolg zu sichern.

Unser aktuelles Zertifikat gemäß DIN EN ISO 9001 können Sie hier herunterladen:

Qualitätspolitik der micro resist technology GmbH

Die micro resist technology GmbH als Tochtergesellschaft der TOK-Gruppe agiert als souveräner Akteur in nationalen und internationalen Technologiemärkten wie der Mikro- und Nanoelektronik, Mikro- und Nanophotonik, Mikrosystemtechnik, Mikro-Optik, Mikro-Fluidik und Mikro-Sensorik basierend auf der Halbleitertechnologie. Als forschungs- und technologieorientiertes Unternehmen sind wir ausgerichtet am Business Excellence Modell. Die Ansprüche unserer Qualitätspolitik sind nach folgenden Kriterien ausgerichtet:

Kundenorientierung – extern und intern

Kundenorientierung bedeutet, unternehmerische Entscheidungen an den Kunden und ihren Bedürfnissen auszurichten. Sie ist ein sehr wichtiger Bestandteil unseres Qualitätsmanagements und ein wesentlicher Treiber von Innovationen.

Zur Kundenorientierung gehören die kontinuierliche Erfassung der Kundenzufriedenheit, die Ausrichtung der Produktentwicklung an Marktausrichtungen und Kundenbedürfnissen, die Entwicklung von Technologien zur Differenzierung im Wettbewerb sowie die kontinuierliche Verbesserung von Produkten, Dienstleistungen und Prozessen.

Unser eigener Anspruch, den Kunden eine reproduzierbare Qualität der gefertigten Produkte zu garantieren, ist der Treiber aller unserer Prozessinnovationen.

Die Verbesserung der Kundenzufriedenheit wird als Handlungstreiber aller Geschäftsprozesse im gesamten Unternehmen verstanden und hat das Ziel, eine hohe Kundenbindung zu erreichen.

Compliance – nachhaltige Geschäftsbeziehungen

Fairness, Wertschätzung und gegenseitiger Respekt sind wichtige Säulen unserer Geschäftstätigkeit als auch unseres Verständnisses für ein menschliches Miteinander. Grundsätzlich werden Betrug, Korruption und unlauteres Verhalten nicht akzeptiert. Unser Unternehmen bekennt sich zu ethischen Grundsätzen und geltenden Rechtsnormen.

Wir pflegen eine nachhaltige und vertrauensvolle Beziehung zu unseren Kunden und Geschäftspartnern. Wir bringen eine hohe Fachkompetenz in unsere Kundenbeziehungen ein und pflegen lösungsorientierte Dialoge.

Zielorientierte Führung

Zielorientierte Führung bedeutet für die Geschäftsführung

  1. die Beherrschung der Finanzen, die Verbesserung der Leistung sowie das Erreichen einer nachhaltigen Begeisterung der Kunden, um Wachstum zu generieren
  2. Nachhaltiges Wachstum durch exzellente Produkte, kontinuierlich steigende Umsätze und die erfolgreiche Positionierung in innovativen Zukunftsmärkten
  3. die Gestaltung der Zukunft, zusammen mit allen Mitarbeitenden in einer authentischen und vertrauensvollen Atmosphäre mit einem hoch innovativen Management- und Verantwortungssystem und
  4. Integration der micro resist technology GmbH in die internationale Gesamt-Konzern-Struktur TOK.

Mit einer klaren in die Zukunft ausgerichteten Strategie kann das Unternehmen wachsen und seine Vision sowie Mission verwirklichen. Wir verstehen Klarheit und Transparenz zu gemeinsam verabredeten Unternehmenszielen als wesentliche Elemente der Unternehmensführung. Denn Klarheit bildet die Voraussetzung für eine präzise Positionierung und Strategie, ermöglicht Strukturen und die Umsetzung von Standards.

Einbeziehung aller Mitarbeitenden

Gesunde und zufriedene Mitarbeitende sind die Grundvoraussetzung für leistungsorientierte Wertschöpfungsprozesse.

Die Mitarbeitenden werden aktiv in die Gestaltung der Unternehmensprozesse einbezogen. Ihre Ideen, Hinweise und Anregungen zur Verbesserung von Produkten, Prozessen, Arbeits- und Produktionsbedingungen dienen als Impuls für konkrete Entwicklungsprozesse. Wir fördern das unternehmerische Denken und Handeln unserer Mitarbeitenden.

Führungspositionen werden langfristig entwickelt. Frauen in Führungspositionen stellen einen hohen Unternehmenswert dar.

Die Unternehmensführung strebt u.a. langjährige Beschäftigungsverhältnisse, die aktive Integration von jungen und älteren Mitarbeitenden und die Vereinbarung von Beruf und Familie an.

Gute Lieferantenbeziehungen

Strategische, langfristige und vertrauensvolle Partnerschaften mit den Lieferanten sichern zeit-konforme Rohstoff-Lieferungen ab und ermöglichen Lieferzeit orientierte, reproduzierbare Fer-tigungsprozesse für eine kundenorientierte Produktqualität.

Prozessorientierung

Alle Geschäftsprozesse werden kunden- und ergebnisorientiert unter Berücksichtigung von Produktqualität und Reproduzierbarkeit gestaltet. Prozesseigner, Prozessverantwortliche und Bereichsleiter sichern die Erfüllung der geplanten Ergebnisse.

Systemorientiertes Management

Einzelprozesse und ihre Wechselwirkungen werden bewusst und effektiv koordiniert, um die Unternehmensziele zu erreichen, Prozesse effizient zu planen und das Unternehmensrisikoma-nagement besser umzusetzen.

Entscheidungen auf der Basis von Schlüsselergebnissen

Die kontinuierliche Arbeit mit Kennzahlen in allen Geschäftsbereichen sichert fundierte Füh-rungs- und Entscheidungsprozesse auf der Grundlage von Analysen und Trendvergleichen.

Fortlaufende Verbesserung

Die micro resist technology GmbH verpflichtet sich zur fortlaufenden Verbesserung der Wirksamkeit ihres Qualitätsmanagementsystems, indem es sich an die stets verändernden Kundenanforderungen, Marktausrichtungen und geopolitischen Entwicklungen anpasst, um wettbewerbsfähig zu bleiben. Die Geschäftsführung unterstützt die Umsetzung der Verbesserungsvorhaben durch stetige Überprüfung der Kundenanforderungen an Produkte, Dienstleistungen und Service, persönliches Engagement und entsprechende Prioritätssetzungen.

Die daraus resultierenden hohen Qualitätsansprüche werden realisiert durch

  • die hohe Sensibilität für Kundenerwartungen und Markterfordernisse,
  • ein ausgewogenes und produktives Verhältnis von Innovation, Produktion und Dienstleistung,
  • die konsequente Schaffung von strategischen Partnerschaften (Netzwerke) und
  • eine intensive und strukturierte interne und externe Kommunikation sowie interdisziplinäre Teamarbeit.


Die klare und eigenverantwortliche Definition von Qualitätszielstellungen für die Produkte und Dienstleistungen ist maßgebliche Basis für Verbesserungserfolge im Unternehmen. Deshalb werden in einem transparenten Prozess jährlich konkrete Qualitätsziele vereinbart und realisiert.

Berlin, 20.08.2026

Motoko Samezawa
Geschäftsführerin

Dr. Arne Schleunitz
Geschäftsführer

Mirjam Henschel
Geschäftsführerin

Kontaktieren Sie uns.

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen