Element 2
+49 30 641 670 100
Element 1
info@microresist.de
Merkmale/ Eigenschaften
  • verschiedene Resistviskositäten verfügbar
  • wässrig-alkalisch entwickelbar
  • Einstellbares Strukturprofil: vertikal bis unterschnitten
  • Hohe Nass- und Trockenätzstabilität
  • Gute thermische Stabilität der Resiststrukturen
Anwendungen
  • Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik
  • Maske für Lift-off Prozesse
  • Ätzmaske für Halbleiter und Metalle
  • geeignet für Ionenimplantationsprozesse
  • Galvanoform
ma-N 400 - Negativphotoresistserie
für Strukturübertragungs- und Einschicht-Lift-off-Prozesse
Resist ma-N 402 ma-N 405 ma-N 415 ma-N 420 ma-N 440 ma-N 490
Schicktdicke [µm] @ 3000 rpm 0,2 0,5 1,5 2,0 4,1 7,5
dyn. Viskosität [mPas]

(@ 25 °C, 1000 s-1)

2,0 3,8 14 23 70 290
Prebake 95 - 100°C
Spektrale Empfindlichkeit 300 - 380nm

i-line - 365 nm

Belichtungsdosis @ 365 nm

UV Mercury Lamp/ Breitband

UV-LED, Stepper, Laser

350 – 1.900 mJ/cm2
Entwickler ma-D 331/S (NaOH based)

ma-D 530/S (TMAH based)

ma-D 331/S (NaOH based)

ma-D 531/S (TMAH based)

ma-D 332/S (NaOH based)

ma-D 532/S (TMAH based)

Entferner mr-Rem 700 (NMP & NEP free)

mr-Rem 500 (NMP free)

ma-R 404/S (strongly alkaline)

Lift-off  mr-Rem 700 (NMP & NEP free)

mr-Rem 500 (NMP free)

Empfohlende Prozesschemikalien:
Verdünner  ma-T 1049
Entwickler ma-D 331/S, ma-D 332/S (NaOH basiert)

531/S, ma-D 532/S (TMAH basiert)

Entferner mr-Rem 700 (NMP & NEP frei)

mr-Rem 500 (NMP frei)

ma-R 404/S (stark alkalisch)

Lift-off mr-Rem 700 (NMP & NEP frei)

mr-Rem 500 (NMP frei)

Angebotsanfrage

Negativresist, Positivresist
Topographie_b1
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Eine materialsparende Methode zur homogenen Beschichtung von Substraten, insbesondere von Substraten mit Topographie oder unförmigen, teilweise schweren Substraten ist die Sprühbeschichtung.
Negativresist
Positivresist
UV-Lithography
Galvanik
Trockenätzen
Naßätzen
3 D Mikrostrukturen
Halbleiterbauelemente
ma-N 1400
ma-N 400
ma-P 1200
ma-P 1200G
18. Juni 2020

Kontaktieren Sie uns.

Pflichtfelder sind mit einem * gekennzeichnet.
Element 32
0