Produktliste
Element 2
+49 30 641 670 100
Element 1
info@microresist.de
Stellenanzeigen
mr-XNIL26SF
Element 23weqwf
Merkmale
  • hoher Anteil an fluorierten Komponenten erleichtert die Stempeltrennung und vermindert die Defektrate
  • 100 % organisch, Rückstandsfrei entfernbar mit Sauerstoffplasma
  • Kann mit PGMEA oder ma-T 1050 auf 100nm-Schichtdicke verdünnt werden
  • Niedriger Brechungsindex des gehärteten Materials (RI = 1,40)
Anwendungen
  • NIL bei der sehr niedrige Entformkräfte wichtig sind, beispielsweise Imprints auf einem Mehrschichtsystem
Photo-vernetzbarer NIL Resist, lösungsmittelfrei
Photo-vernetzbarer NIL Resist mit einem hohen Anteil an fluorierten Komponenten

Angebotsanfrage

Kontaktieren Sie uns.

Pflichtfelder sind mit einem * gekennzeichnet.

© All rights reserved: micro resist technology GmbH / Gestaltung und Umsetzung: onthewall GmbH

Produkte
0
Gesamt
€0,00
➥
Element 32
0