Um den Anforderungen des Imprints gerecht zu werden, wurde mit OrmoStamp^® ein Material zur einfachen und kosteneffizienten Herstellung transparenter, polymerer Arbeitstempel mit exzellenter Strukturtreue bis in den Nanometerbereich entwickelt. Hierbei ist OrmoStamp^® sowohl für den thermischen als auch für den UV-basierten Imprint einsetzbar und daher ein geeigneter Ersatz für Stempel auf Silizium- und Quarz-Basis.

OrmoStamp^®-Arbeitsstempel sind kompatibel mit unseren Hybridpolymeren und Resisten für die Nanoimprintlithographie. Dadurch sind OrmoStamp-Arbeitsstempel zur Replikation von Mikro- und Nanometerstrukturen beispielsweise in den Bereichen 

• Mikro und Nanooptik (z.B. für Mikrolinsen, Prismen, Gratings),
• Mikrofluidik,
• Photonik,
• Trockenätzmasken,

einsetzbar.

Das Video dient als Tutorial, wie man mit Hilfe eines einfachen Aufbaus  einen OrmoStamp^®-Arbeitsstempel herstellt.

Anwendungen

• Herstellung transparenter polymerer Arbeitsstempel
• Kosteneffiziente Alternative zu Quarzstempeln
• UV-basiertes und thermisches Prägen, Nanoimprintlithographie

Verlinkungen auf zugehörige Produktseiten

• OrmoStamp^®
• OrmoComp^®
• OrmoClear^®FX
• mr-NIL200
• mr-UVCur26SF