Karriere

Produktfilter

Produktauswahl

Filtern Sie nach Kategorie, Prozess, Anwendung und vielem mehr!

Produktkategorie
Prozesse
Endanwendungen
Resist Alliance
Resist Alliance
OrmoComp®
Hybridpolymere
Nano- und Mikrooptik
Für UV-Prägen und UV-Abformung
OrmoComp® verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist das Standardprodukt für eine große Auswahl an Strukturgrößen und Bauteildimensionen
Merkmale
  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
Anwendungen
  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
Material Refractive Index (589 nm) Viscosity

[Pas]

 Preferred processing Typical end use application Replication with PDMS molds

(no oxygen sensitivity)
OrmoComp® 1.520 2.0 ± 0.5 UV imprint

UV molding

 Nano- and micro optics +
Alternative Hybrid Polymer materials 
OrmoClear®FX 1.555 1.5 ± 0.3 UV imprint and UV molding Nano- and micro optics +
OrmoClear® 1.555 2.9 ± 0.3 UV imprint and UV molding Nano- and micro optics -
OrmoClear®30 1.561 30 ± 3 UV imprint and UV molding Micro optics -
OrmoStamp®FF 1.516 0.5 ± 0.1 UV imprint and UV molding Working stamp fabrication +
OrmoClad 1.537 2.5 ± 1.0 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
OrmoCore 1.555 2.9 ± 0.4 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
Zur Produkt-Detailseite

Angebotsanfrage

OrmoStamp®FF
Hybridpolymere
Herstellung von Arbeitsstempeln
Für UV-basiertes und thermisches Imprinting.
OrmoStamp®FF verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und wurde designed entwickelt für die Herstellung transparenter Polymerarbeitsstempel mit hervorragender Strukturtreue OrmoStamp®FF ist die fluorfreie Weiterentwicklung des bewährten OrmoStamp® und wird dieses Material ersetzen. Zur Erreichung der maximalen Transparenz kann nach der Trennung von Master und OrmoStamp®FF-Kopie eine weitere Flutbelichtung bis 20 J/cm-2 je nach Schichtdicke durchgeführt werden.
Merkmale
  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
  • Geringe Entformkräfte durch verbesserte Anti-Haft-Eigenschaften
  • Verarbeitbar mit Standard-Lithographie Equipment
  • PFAS frei
  • Für eine weitere Verbesserung der Entformung wird das Auftragen einer Antihaftschicht empfohlen (z.B. mittels Gasphasenabscheidung von F13-TCS (1H,1H,2H,2H-prfluorooctyl-trichlorsilane, CAS number [78560-45-9]
Anwendungen
  • Herstellung transparenter Arbeitsstempel
  • Kostengünstige Alternative zu Quarzstempeln
  • UV-basiertes und thermisches Imprinting, Nanoimprint Lithographie
Material Refractive Index (589 nm) Viscosity

[Pas]

 Preferred processing Typical end use application Replication with PDMS molds

(no oxygen sensitivity)
OrmoStamp®FF 1.516 0.5 ± 0.1 UV imprint and UV molding Working stamp fabrication +
Alternative Hybrid Polymer materials
OrmoComp® 1.520 2.0 ± 0.5 UV imprint

UV molding

 Nano- and micro optics +
OrmoClear®FX 1.555 1.5 ± 0.3 UV imprint and UV molding Nano- and micro optics +
OrmoClear® 1.555 2.9 ± 0.3 UV imprint and UV molding Nano- and micro optics -
OrmoClear®30 1.561 30 ± 3 UV imprint and UV molding Micro optics -
OrmoClad 1.537 2.5 ± 1.0 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
OrmoCore 1.555 2.9 ± 0.4 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
Zur Produkt-Detailseite

Angebotsanfrage

OrmoClear® Serie
Hybridpolymere
Mikrooptik
Für UV-Prägen und UV-Abformung
Die Produkte der OrmoClear®-Serie verfügen nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und sind durch ihre sehr geringe Volumenschrumpfung besonders geeignet für optische Komponenten > 100 µm
Merkmale
  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
Anwendungen
  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
Material Refractive Index (589 nm) Viscosity

[Pas]

 Preferred processing Typical end use application Replication with PDMS molds

(no oxygen sensitivity)
OrmoClear® 1.555 2.9 ± 0.3 UV imprint and UV molding Micro optics -
OrmoClear®30 1.561 30 ± 3 UV imprint and UV molding Micro optics -
Alternative Hybrid Polymer materials 
OrmoComp® 1.520 2.0 ± 0.5 UV imprint

UV molding

 Nano- and micro optics +
OrmoClear®FX 1.555 1.5 ± 0.3 UV imprint and UV molding Nano- and micro optics +
OrmoStamp®FF 1.516 0.5 ± 0.1 UV imprint and UV molding Working stamp fabrication +
OrmoClad 1.537 2.5 ± 1.0 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
OrmoCore 1.555 2.9 ± 0.4 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
Zur Produkt-Detailseite

Angebotsanfrage

OrmoClear®FX
Hybridpolymere
Nano- und Mikrooptik
Für UV-Prägen und UV-Abformung
OrmoClear®FX verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist ideal für mikro- und nanooptische Komponenten unterschiedlicher Strukturgrößen und Bauteildimensionen
Merkmale
  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
Anwendungen
  • Geprägte Gitter und Prismen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Optische Kopplungselemente und Verbindungen
  • Mikrofluidische Systeme
  • Einzelelemente oder Wafer-Level
Material Refractive Index (589 nm) Viscosity

[Pas]

 Preferred processing Typical end use application Replication with PDMS molds

(no oxygen sensitivity)
OrmoClear®FX 1.555 1.5 ± 0.3 UV imprint and UV molding Nano- and micro optics +
Alternative Hybrid Polymer materials 
OrmoComp® 1.520 2.0 ± 0.5 UV imprint

UV molding

 Nano- and micro optics +
OrmoClear® 1.555 2.9 ± 0.3 UV imprint and UV molding Nano- and micro optics -
OrmoClear®30 1.561 30 ± 3 UV imprint and UV molding Micro optics -
OrmoStamp®FF 1.516 0.5 ± 0.1 UV imprint and UV molding Working stamp fabrication +
OrmoClad 1.537 2.5 ± 1.0 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
OrmoCore 1.555 2.9 ± 0.4 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
Zur Produkt-Detailseite

Angebotsanfrage

OrmoCore und OrmoClad
Hybridpolymere
Wellenleiter
Für UV-Prägen, UV-Abformung und UV-Lithographie
OrmoCore und OrmoClad verfügen nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und sind wegen ihrer geringen optischen Dämpfung besonders geeignet zur Herstellung optischer Wellenleiter
Merkmale
  • Niedrige optische Dämpfung bei Datacom Wellenlängen
  • Einstellbarer Brechungsindex (via Anteil Core/Clad)
  • Hohe thermische und mechanische Stabilität
Anwendungen
  • Singlemode- und Multimode-Wellenleiter
  • Strahlteiler
  • Thermo-optische Schalter
  • Mikroring-Resonatoren
Material Refractive Index (589 nm) Viscosity

[Pas]

 Preferred processing Typical end use application Replication with PDMS molds

(no oxygen sensitivity)
OrmoClad 1.537 2.5 ± 1.0 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
OrmoCore 1.555 2.9 ± 0.4 UV imprint

UV molding

UV lithography

 Waveguides -
Alternative Hybrid Polymer materials 
OrmoComp® 1.520 2.0 ± 0.5 UV imprint

UV molding

 Nano- and micro optics +
OrmoClear®FX 1.555 1.5 ± 0.3 UV imprint and UV molding Nano- and micro optics +
OrmoClear® 1.555 2.9 ± 0.3 UV imprint and UV molding Nano- and micro optics -
OrmoClear®30 1.561 30 ± 3 UV imprint and UV molding Micro optics -
OrmoStamp®FF 1.516 0.5 ± 0.1 UV imprint and UV molding Working stamp fabrication +
Zur Produkt-Detailseite

Angebotsanfrage

InkOrmo Serie
Hybridpolymere, Inkjet Materialien
Für Drop-on-Demand Ink-Jet-Printing
InkOrmo verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist durch seine geringe Viskosität besonders geeignet zur Mikrolinsen-Herstellung mittels Ink-Jet-Printing
Merkmale
  • Hervorragende thermische, mechanische und chemische Stabilität der ausgehärteten Strukturen
  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Kompatibel zu vielen Standard-Druckköpfen
Anwendungen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Wellenleiter und mikrofluidische Bauteile
  • Abstandshalter und Schutzschichten
  • Großflächige Substratverarbeitung
Material Viskosität

[mPas]

 Sauerstoffinhibierung Brechungsindex (589 nm, ausgehärtetes Material) Thermische Stabilität (nach Aushärtung) Anwendungsgebiete
InkOrmo Serie 7 ± 1

12 ± 1.5

18 ± 2

 Nein 1.517 – 1.520 bis zu 270 °C Permanente optische Anwendungen (z. B. Mikrolinsen)
Alternative Inkjet Materialien:
InkEpo Serie 5 ± 0.3

8 ± 0.5

12 ± 1

25 ± 1

 Nein 1.555 bis zu 180 °C Permanente optische Anwendungen (z. B. Mikrolinsen, Wellenleiter)
mr-UVCur26SF 15 ± 2

(lösungsmittelfrei)

 Ja 1.518 bis zu 180 °C Ätzmaske, Step & Repeat NIL-Prozesse, large-area structuring of flexible substrates
Zur Produkt-Detailseite

Angebotsanfrage

Bitte nutzen Sie bei Bedarf auch den allgemeinen Kontakt unserer Website – wir kommen umgehend auf Sie zurück!

Produkte
0
Gesamt
€0,00
➥
Element 32
0

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen
Element 23weqwf

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen
Element 23weqwf

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Element 23weqwf

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Element 23weqwf

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit
Element 23weqwf

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik
Element 23weqwf

Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.