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Dipl.-Chem. Gabi Grützner ist Gründerin und geschäftsführende Gesellschafterin (CEO) und entwickelte die micro resist technology GmbH seit der Firmengründung im Jahr 1993 zu einem international agierenden mittelständischen Unternehmen.
Dr.-Ing. Arne Schleunitz ist seit 2016 als zweiter Geschäftsführer und Chief Technology Officer (CTO) berufen. Der promovierte Ingenieur arbeitete zuvor in europäischen Technologieprojekten zur industriellen Mikro- und Nanofabrikation.
Mirjam Henschel komplettiert seit 2023 als Kaufmännische Geschäftsführerin (COO) das Führungsteam. Zuvor leitete sie fast 10 Jahre das Kundenmanagement der micro resist technology GmbH.
Dipl.-Chem. Gabi Grützner, CEO und Gründerin
Gabi Grützner ist Gründerin und geschäftsführende Gesellschafterin (CEO). Seit der Firmengründung im Jahr 1993 entwickelte sie die micro resist technology GmbH zu einem international agierenden mittelständischen Unternehmen. Dabei steuerte sie nicht nur die unternehmerische Ausrichtung, sondern setzte auch maßgebliche Innovationsimpulse für Produkt- und Technologieentwicklungen. Ihr Studium der Chemie in Jena schloss sie als Diplom-Chemikerin mit den Schwerpunkten Physikalische- und Oberflächenchemie, und Glaschemie ab. Anschließend war sie wissenschaftliche Mitarbeiterin in der Entwicklung optoelektronischer Bauelemente im Werk für Fernsehelektronik Berlin, bevor sie selbst zur Unternehmerin wurde. In dieser Funktion engagiert sie sich sowohl für die regionale Wirtschaft als auch in wissenschaftlichen Gremien.
Berufliche Stationen und Gremienarbeiten
2018 Mitglied des Steuerkreises Innovationsdialog zwischen Bundesregierung, Wirtschaft und Wissenschaft
2018 Berufung in das Kuratorium des Fraunhofer-Instituts für Optik und Feinmechanik IOF Jena
2016 Berufung in das Kuratorium des Fraunhofer-Instituts für Zuverlässigkeit und Mikrointegration IZM Berlin
2013 Berufung in die Jury für den Innovationspreis Berlin-Brandenburg
2011 Conference Chair – MNE‘2011
2008 Mitglied im Wirtschaftsausschuss Berlin Brandenburg
2006 Preisträgerin „Unternehmerin des Jahres 2006 des Großen Preises des Mittelstandes Deutschland“
2005 Vorsitzende des Berliner Mittelstandsbeirates (bis 2011)
2005 Kuratoriumsmitglied der Mikroelektronik Fabrik Deutschland
1993 Gründung und Geschäftsführung der micro resist technology GmbH
1983 Entwicklungsingenieur im Bereich III-V-Halbleiter im Werk für Fernsehelektronik
1983 Abschluss Studium der Chemie (Dipl.-Chem). An der Technischen Universität Jena
Dr.-Ing. Arne Schleunitz, CTO
Arne Schleunitz wurde 2016 als zweiter Geschäftsführer und Chief Technology Officer (CTO) berufen. Er ist im Unternehmen verantwortlich für den technischen Vertrieb und die weltweite Innovationverwertung. Nach seinem Studium der Elektrotechnik an der TU Berlin mit dem Schwerpunkt Mikrosystemtechnik und einem Forschungsaufenthalt in den USA an der University of Maryland, promovierte er am Karlsruhe Institut für Technologie (KIT) zum Thema Mikro- und Nanostrukturierung mittels Nanoimprint Lithographie. Als Post-Doc am Paul Scherrer Institut (PSI) in der Schweiz vertiefte er seine Prozesskenntnisse in der Mikro- und Nanofabrikation, bevor er 2012 als Leiter des Technologie-Managements sein Engagement im Unternehmen begann.
Berufliche Stationen und Gremienarbeiten
2018 Vorstandsmitglied im PolyPhotonics Berlin e.V.
2016 Technischer Geschäftsführer, micro resist technology GmbH
2012 Leiter Technologie-Management, micro resist technology GmbH
2009 Post-Doc, Paul Scherrer Institut, Schweiz
2009 Promotion am Karlsruhe Institut für Technologie (KIT)
2004 Abschluss Studium der Elektrotechnik (Dipl.-Ing.) an der Technischen Universität Berlin
Mirjam Henschel, COO
Mirjam Henschel ergänzt mit ihrer kaufmännischen Ausbildung und Abschluss als Diplom-Kauffrau die Geschäftsführung. Die Berufung als Chief Operating Officer (COO) erfolgte 2023. Davor zeichnete sie fast 10 Jahre für das Kundenmanagement verantwortlich. Darüber hinaus ist sie seit 2012 Luftsicherheitsbeauftragte und seit 2021 Exportkontrollbeauftragte des Unternehmens. Vor ihrem Eintritt bei micro resist technology GmbH arbeitete sie als kaufmännische Angestellte bei einem überregionalen Bauträger.
Berufliche Stationen
2023 Kaufmännische Geschäftsführerin, micro resist technology GmbH
2021 Exportbeauftragte, micro resist technology GmbH
2014 Leitung Kundenmanagement, micro resist technology GmbH
2012 Luftsicherheitsbeauftragte, micro resist technology GmbH
2010 Mitarbeiterin im Kundenmanagement, micro resist technology GmbH
2008 Eintritt bei micro resist technology GmbH als verantwortliche Baubetreuerin
2001 Mitarbeiterin bei überregionalen Bauträgern
2000 Abschluss Studium der Betriebswirtschaft als Diplom-Kauffrau
© All rights reserved: micro resist technology GmbH / Gestaltung und Umsetzung: onthewall GmbH
micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.
DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.
Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.
DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.
Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.
Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren
Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)
Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.
Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.
Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.
micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.
OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436
Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie
Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie