Datenschutzhinweise zur Videoüberwachung

Wir setzen auf unserem Grundstück eine Videoüberwachung ein.

Zweck der Videoüberwachung

Die Videoüberwachung erfolgt zur Wahrnehmung des Hausrechts. Die Videoüberwachung
erfolgt auch zur Verhinderung von Straftaten sowie zur Geltendmachung, Ausübung oder
Verteidigung von Rechtsansprüchen.

Rechtsgrundlage der Videoüberwachung und verfolgte Interessen

Rechtsgrundlage der Videoüberwachung ist Art. 6 Abs. 1 lit. f) DSGVO.

Soweit besondere Kategorien personenbezogener Daten verarbeitet werden, erfolgt dies auf
Grundlage von Art. 9 Abs. 2 lit. f) DSGVO.

Die von uns mit der Videoüberwachung verfolgten Interessen sind:

• Wahrnehmung des Hausrechts
• Verhinderung von Straftaten und
• Unterstützung bei der Geltendmachung, Ausübung oder Verteidigung von
Rechtsansprüchen

Empfänger / Weitergabe von Daten

Eine Weitergabe der Daten erfolgt an von uns beauftragte Dienstleister, die
Überwachungsaufgaben für unser Unternehmen wahrnehmen.

Im Falle des Verdachts von strafbaren Handlungen geben wir die Daten zudem ggf. an
Rechtsanwältinnen, Rechtsanwälte, Versicherungsunternehmen und Strafverfolgungsbehörden
weiter.

Ansonsten werden die Daten nur weitergegeben, wenn es eine Rechtsgrundlage für die
Weitergabe gibt. Dies kann insbesondere der Fall sein, wenn die Polizei oder sonstige
Sicherheitsbehörden im Rahmen der sog. Gefahrenabwehr tätig werden und einen Zugriff auf
die Daten der Videoüberwachung verlangen.

Datenverarbeitung außerhalb der Europäischen Union

Eine Verarbeitung von
personenbezogenen Daten außerhalb der Europäischen Union findet im
Rahmen der Videoüberwachung nicht statt.

Verantwortlicher für die Datenverarbeitung

Verantwortlicher im Sinne des Datenschutzrechts ist die

micro resist technology GmbH
Köpenicker Str. 325
12555 Berlin
Telefon: +49 30 641670 100
Telefax: +49 30 641670 200
E-Mail: mrt@microresist.de

Datenschutzbeauftragter

Wir haben einen Datenschutzbeauftragten benannt. Sie erreichen diesen wie folgt:

Herr Maak Roberts, LEROIL Datenschutz, Holzmarktstr.25, 10243 Berlin
E-Mail: ro@leroil.de, Tel.: 030 / 549 094 97

Ihre Rechte als Betroffene/r

Sie haben das Recht auf Auskunft über Ihre von uns verarbeiteten personenbezogenen Daten.

Ferner haben Sie ein Recht auf Berichtigung oder Löschung oder auf Einschränkung der
Verarbeitung Ihrer Daten, soweit Ihnen dies gesetzlich zusteht.

Ferner haben Sie ein Widerspruchsrecht gegen die Verarbeitung im Rahmen der gesetzlichen
Vorgaben. Gleiches gilt für ein Recht auf Datenübertragbarkeit.

Löschung von Daten

Daten aus der Videoüberwachung werden grundsätzlich nach Ablauf von 72 Stunden gelöscht.

Eine längere Speicherung kann anlassbezogen erfolgen, wenn Tatsachen die Annahme
rechtfertigen, dass auf Aufnahmen aus einem eingegrenzten Zeitraum, Handlungen zu sehen
sind, die als Straftat verfolgt oder zur Geltendmachung von zivilrechtlichen Ansprüchen genutzt
werden sollen.

Beschwerderecht bei einer Aufsichtsbehörde

Sie haben das Recht, sich über die Verarbeitung personenbezogener Daten durch uns bei einer
Aufsichtsbehörde für den Datenschutz zu beschweren.

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen