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+49 30 641 670 100
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info@microresist.de
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Webinar_TinaPosRes_2025-01-15
Join the mrt webinar series and meet the experts
micro resist technology offers a free online seminar series „mrt webinar – meet the experts“ on a monthly base.
12. Dezember 2024
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micro resist technology

Wir sind führend in der Entwicklung, der Produktion und dem Vertrieb von innovativen Photoresisten, Polymeren, Photopolymeren und Prozesschemikalien für die Mikro- und Nanostrukturierung in Schlüsseltechnologien von heute und Wachstumsmärkten von morgen.

Liebe Kunden und Geschäftspartner,

auch in der aktuellen Situation der weltweiten COVID-19 Ausbreitung fahren mit unserer täglichen Arbeit unter Berücksichtigung des Infektionsschutzes fort und werden unsere Dienstleistungen weiterhin zur Zufriedenheit unserer Kunden erbringen. Wir können einen weitgehend normalen Betriebsmodus beibehalten, der uns die geregelte Bearbeitung von Aufträgen ermöglicht. Im Bestellablauf ändert sich für Sie nichts.

Wir wünschen Ihnen alles Gute und freuen uns auf die weitere Zusammenarbeit …

Ihr Team der micro resist technology GmbH

Desinfektionsmittel von micro resist technology

Infolge der Verbreitung des Coronavirus SARS-CoV-2 in Deutschland hat die Bundesregierung eine verstärkte Nachfrage nach Desinfektionsmitteln zur Hände- und Flächendesinfektion beobachtet, die mit den bisher verfügbaren Ressourcen unter der aktuellen Regulierung nicht ausreichend befriedigt werden konnte. Aus diesem Grunde wurde die BAuA aufgefordert, durch Allgemeinverfügungen kurzfristig Ausnahmezulassungen nach Artikel 55 Abs. 1 der Biozid-Verordnung zu erlassen, um Apotheken, der pharmazeutischen und chemischen Industrie sowie Personen des öffentlichen Rechts die Herstellung und das Bereitstellen auf dem Markt von zusätzlichen Flächendesinfektionsmitteln zu ermöglichen. Auch wir möchten mit dieser Möglichkeit helfen, den Bedarf zu decken. Ab sofort stellen wir Desinfektionsmittel selbst, nach entsprechend vorgegebenen Rezepturen der WHO, her. 

Bei Bedarf und Interesse wenden Sie sich bitte direkt an uns! 

Telefon: 030 6410670 100,
E-Mail: desinfekt@microresist.de, 

www. microresist.de

mrt Resiste & Polymere

Zu den Prozesschemikalien

Negativ-Photoresiste

Unsere Negativ-Photoresiste werden eingesetzt für die UV-, DUV-, Laser-, Elektronenstrahl- und Röntgenstrahl-Lithographie …

Positiv-Photoresiste

Unsere Positiv-Photoresiste werden eingesetzt für die UV- (Mask Aligner, Laserschreiben, Grautonbelichtung) und Elektronenstrahl-Lithographie …

Hybridpolymere

Unsere UV-härtbaren Hybridpolymere werden eingesetzt für die Fertigung polymerbasierter mikro- und nano-optischer Komponenten …

Nanoimprint Resiste / Polymere

Unsere maßgeschneiderten Nanoimprint Resiste werden in unterschiedlichen Technologien der Nanoimprint-Lithographie (NIL) eingesetzt …

Inkjet Materialien

Unsere Inkjet Materialien aus allen Produktgruppen sind in den unterschiedlichsten Anwendungen mittels Inkjet-Print-Verfahren einsetzbar …

Trockenfilmresiste

Unsere Trockenfilmresiste werden eingesetzt als Permanentmaterial für z.B. Anwendungen in optischen Elementen oder in der Mikrofluidik …

Als High-Service-Distributor bieten wir in unserem eigenen Portfolio zusätzlich komplementäre Produkte unserer Partner an.

formerly DOW Chemical – formerly Rohm and Haas

formerly MicroChem MCC

Sehr geehrte Kunden, lieber Partner,

In den aktuellen Zeiten brauchen wir auch positive Nachrichten: Sein Sie daher herzlich willkommen auf der neugestalteten Website von micro resist technology GmbH!

Schon vor vielen Jahrhunderten wusste der vorsokratische Philosoph: „Nichts ist so beständig wie der Wandel“ (Heraklit von Ephesus). Diesem Anspruch an Innovationskraft verpflichtend, haben wir unsere Präsenz im Internet erneuert. Die Möglichkeiten der digitalen Kommunikation gewinnen in diesen Wochen nochmals an großer Bedeutung, so dass wir mit Stolz auf das virtuelle Schaufenster unseres Unternehmens blicken.

Aufgrund der vielen positiven Kommentare in der Vergangenheit haben wir altbewährte Inhalte natürlich übernommen. Sie werden auch weiterhin einen starken technischen Fokus auf die Produkte unseres Hauses und die unserer strategischen Partner wiederfinden. Allerdings haben wir Ihnen den Zugang zu unserer Produktwelt über eine intuitive Filterfunktion noch vereinfacht. Das Ziel der leichten Handhabung ist, dass Sie schneller einen Überblick erhalten und dennoch ganz bequem eine Auswahl treffen können.

Wir laden Sie herzlich ein, unsere neugestaltete Produktwelt auszuprobieren! Die Produktwelt lebt, ist veränderlich und wird auf sich ändernde Anforderungen reagieren. Wir werden unser Portfolio erweitern und anpassen, sodass sich der zukünftige Besuch weiterhin lohnt. Gern stehen wir Ihnen natürlich auch persönlich zur Seite.

Ihr Team der micro resist technology

Für den globalen
Hochtechnologiemarkt

Innovative Photoresiste, Polymere, Photopolymere und
Prozesschemikalien für die Mikro- und Nanostrukturierung.

News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technologie informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich neuer Forschungsprojekte, Konferenzen, sowie veröffentlichen wir regelmäßig unseren Tech-Blog.

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Webinar_TinaPosRes_2025-01-15
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micro resist technology offers a free online seminar series „mrt webinar – meet the experts“ on a monthly base.
12. Dezember 2024
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DisplayInnovatonDay_11Dec2024
Display Innovation Day on December 11th, 2024
Among many other exciting contributions, our expert Dr. Maria Russew will give a presentation on “Highly reliable hybrid polymer materials for micro-optical applications, photonics and beyond”
3. Dezember 2024
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News_Bild_BeamsMore_24
Workshop "Beams & More" in Stuttgart
Our expert Dr. Alexander Plucinski will be there with his presentation on “Innovative Photopolymers Advancing Micro- and Nano Patterning for Photonic Applications”
31. Oktober 2024
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Semicon Europa 2024, November 12 - 15
We would like to welcome you - customers and partners - again at SEMICON Europa hall C2, booth 746
10. Oktober 2024
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PolyChromeWS-2_2024_54
PolyChrome Workshop – Berlin Adlershof – Curie-Cabinet – October 9th, 2024
We will contribute to this workshop with an expert presentation by Dr. Maria Russew about “Hybrid Polymers for Optical Applications and Beyond”.
25. September 2024
Information
MNE_LOGOHomepage
MNE 2024 - September 16th - 19th, 2024
MRT will be attending MNE again this year - the 50th edition of the International Micro and Nano Engineering Conference from September 16th – 19th, 2024 in Montpellier, France
11. September 2024
Information
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Technical Workshop - Montpellier - September 16th, 2024
In the run-up to the MNE conference in Montpellier, the Technical Workshop on Laser Lithography & Direct Write is taking place - organized by Heidelberg Instruments, GenISys, and micro resist technology.
10. September 2024
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nano_Korea_MRT
NanoKorea 2024 – July 3rd – 5th, 2024
We are proud to announce that we will be attending NanoKorea at KINTEX Exhibition Center I in the first week of July.
22. Juni 2024
Information
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NNT (2024) NIL ID – Save-the-date
This year, 2024, we will join forces and merge the NNT 2024, the 23rd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies, and the European NIL Industrial Day 2024, the 14th summit focusing on industrial applications of Nanoimprint Lithography, to be held as a united conference on June 24-27, 2024, at ”The Medicon Village” in Lund, Sweden.
21. Juni 2024
Bildschirmfoto 2024-05-28 um 15.40.00
BioChip in Berlin
We will be presenting at BioChip in Berlin this year. Look forward with us to Dr. Maria Russew contribution. She will be speaking about one of our important research projects on Wednesday, May 29 at 14:25 p.m. on the topic: "PolyChrome – Photonics for sensing applications".
28. Mai 2024
Konferenz
Unbenannt-1
SPIE Advanced Lithography + Patterning February 25th – 29th 2024
We would like to proudly inform you that we will be at the SPIE-AL in San Jose California again this year. You are welcome to meet our experts in the technical exhibition at booth #538.
13. Februar 2024
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Besuch der Berliner Wirtschaftssenatorin
Wir beginnen unser neues Jahr gleich mit einem Highlight! Franziska Giffey – Berliner Wirtschaftssenatorin war am 8. Januar 2024 bei uns zu Gast im Rahmen der „Made in Berlin“-Tour des Jahres 2024...
11. Januar 2024
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semi-banner (002)
Semicon Europa 2023, November 14 - 17
We look forward to welcoming you - customers and partners - again at the SEMICON in Munich...
11. Oktober 2023
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Polychrome_platine
Workshop PolyChrome Berlin
We are pleased to announce our participation in the workshop PolyChrome Berlin on November 2nd 2023
11. Oktober 2023
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Nano-Micro-Lithography Symposium
Nano-Micro-Lithography Symposium Save the date: November 6th/7th, 2023
11. Oktober 2023
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NNT 2023, October 9 – 11
We are looking forward to our participation in the NNT 2023 conference and exhibition. Taking place in Boston (USA) from October 9th – 11th...
4. Oktober 2023

Unsere Händler

Die micro resist technology GmbH ist stolz Ihnen ein weltweites Händlernetzwerk bieten zu können. 

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen