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Umweltmanagement

Unser Unternehmen betreibt ein integriertes Qualitäts- und Umweltmanagementsystem, das die Grundlage für eine nachhaltige und kundenorientierte Unternehmensführung bildet. Das Qualitätsmanagementsystem nach DIN EN ISO 9001 ist bereits seit 1997, das Umweltmanagementsystem nach DIN EN ISO 14001 seit 2011 erfolgreich zertifiziert. Beide Managementsysteme unterstützen uns dabei, die Qualität unserer Produkte und Dienstleistungen kontinuierlich zu verbessern, Ressourcen verantwortungsvoll einzusetzen und den langfristigen Unternehmenserfolg zu sichern.

Unser aktuelles Zertifikat gemäß DIN EN ISO 14001 können Sie hier herunterladen:

Umweltpolitik der micro resist technology GmbH

Die micro resist technology GmbH als Tochtergesellschaft der TOK-Gruppe agiert als souveräner Akteur in nationalen und internationalen Technologiemärkten wie der Mikro- und Nanoelektronik, Mikro- und Nanophotonik, Mikrosystemtechnik, Mikro-Optik, Mikro-Fluidik und Mikro-Sensorik basierend auf der Halbleitertechnologie.

Ziel in all unserem Handeln ist es, in Abstimmung mit unserer Muttergesellschaft den ökologischen Fußabdruck unseres Unternehmens zum Schutz und dem Erhalt einer gesunden Natur, einer hohen Biodiversität und einer lebenswerten Umwelt so gering wie möglich zu halten. Treiber unseres Handelns ist der fortschreitende Klimawandel. Im Bewusstsein unserer ökologischen Verantwortung berücksichtigen wir die Auswirkungen unserer Tätigkeiten auf den Klimawandel und setzen uns für die kontinuierliche Verbesserung unserer Umweltleistung zum Schutz des Klimas und der natürlichen Lebensgrundlagen ein.

Die Ansprüche unserer Umweltpolitik, ergänzend zu unserer Qualitätspolitik, sind nach folgenden Kriterien ausgerichtet:

Wir fördern umweltbewusstes Verhalten im Unternehmen

Jeder Mitarbeitende ist für das ökologisch verträgliche Wirtschaften der micro resist technology GmbH mitverantwortlich. Alle Mitarbeitenden werden über umweltrelevante Themen informiert, geschult und aktiv in den Umweltschutz eingebunden.

Die Einhaltung von bindenden Verpflichtungen und anderer Anforderungen stellt eine Mindestanforderung an unser tägliches Handeln dar. Darüber hinaus erwarten wir von unseren Mitarbeitenden bei allen Aktivitäten ein im Rahmen ihrer Möglichkeiten umwelt- und sicherheitsbewusstes Verhalten.

Potenzielle Gefahren für Mensch und Umwelt werden durch einen gelebten Arbeits- und Umweltschutz minimiert. Dieser Anspruch gilt auch für die Vertragspartner, die auf dem Betriebsgelände in unserem Auftrag tätig sind.

Wir vermeiden Umweltbelastungen, schonen Ressourcen und agieren nachhaltig

Seit Gründung der micro resist technology GmbH gehört es zu unserer Philosophie, qualitativ hochwertige Produkte möglichst umweltfreundlich zu fertigen. Bereits in der Forschung und Entwicklung neuer Produkte und Technologien legen wir dafür mit einer umweltgerechten Rohstoffauswahl (u.a. auch biobasierte Rohstoffe), Rezepturentwicklung und Kundenanwendung den Grundstein. Wir bieten unseren Kunden Produkte für innovative Technologien mit einer hohen Materialeffizienz und möglichst langer Haltbarkeit an. Somit tragen wir zur Ressourcenschonung und Kostensenkung bei unseren Kunden bei.

Änderungen in der Gefahrstoff-Einstufung von Rohstoffen lösen bei uns die vorausschauende Entwicklung von alternativen Produkten aus, die unsere Kunden sicher in ihren Prozessen anwenden können.

Die Umwelteinwirkungen unserer Tätigkeiten, Verfahren und Produkte beurteilen wir jährlich und minimieren diese im technisch und wirtschaftlich möglichen Umfang. Es gilt Umweltverschmutzungen zu verhindern und unbeabsichtigte Ableitungen in die Umwelt zu vermeiden. Dies schließt die mit den Produkten verbundenen Auswirkungen unter Berücksichtigung der Lebenszyklen ein.

Wir setzen Energien, Roh- und Betriebsstoffe bewusst und sparsam ein. Die Verbesserung des Ressourcenmanagements einschließlich der bewussten Energienutzung ist für uns auch ein wichtiger Bestandteil unseres Umweltmanagementsystems, um Betriebskosten zu minimieren.

Wir gestalten unsere Produktionsprozesse derart, dass möglichst wenige Abfälle entstehen. Ausgewählte Reinigungslösemittel aus der Produktion reinigen wir auf und setzen sie erneut ein. Gefährliche Abfälle entsorgen wir über einen zertifizierten Anbieter. Durch eine konsequente Trennung von Abfällen und Abgabe an Fachfirmen tragen wir zu einer sinnvollen Weiterverwendung von Wertstoffen bei.

Wir streben aktiv Verbesserungen an

Wir entwickeln unser Umweltmanagementsystem fortlaufend weiter. Jährlich werden wesentliche Umweltaspekte identifiziert und kontrolliert. Schlussfolgernd daraus werden messbare Umweltziele zur Verbesserung der Umweltleistung festgelegt. Die Erreichung unserer Umweltziele ist ein wesentliches Element, um den Nachhaltigkeitsgedanken zur ständigen Verbesserung und Vermeidung von Umweltbelastungen sicherzustellen.

Berlin, 20.08.2026

Motoko Samezawa
Geschäftsführerin

Dr. Arne Schleunitz
Geschäftsführer

Mirjam Henschel
Geschäftsführerin

Kontaktieren Sie uns.

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen